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      半導體行業廢氣治理方案

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      半導體行業廢氣治理方案方案概述

      半導體行業廢氣處理,按照其廢氣處理工藝分為:酸性廢氣處理(SEX)、堿性廢氣處理(AEX)、有機廢氣處理(VEX)和一般排氣(GEX)等;其廢氣處理系統包括:酸性廢氣處理設備、堿性廢氣處理設備、有機廢氣處理設備等;酸、堿廢氣處理設備有:洗滌塔,又名噴淋塔、吸收塔;有機廢氣處理設備有:活性炭吸附裝置、直燃式熱氧化廢氣焚燒爐(TO)等。


      方案特點

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      技術路線

      1 活性炭 / 沸石+催化燃燒

      凈化原理: 有機廢氣通過活性炭/沸石吸附飽和后,采用熱空氣進行脫附再生,脫附后的高濃度廢氣經催化燃燒排空。催化燃燒利用熱空氣或熱氮氣來脫附產生的高濃度廢氣,有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下于250~400℃之間催化氧化為CO2和H2O,并釋放大量的熱量,通過熱交換器對熱量進行再利用。

      沸石轉輪VOCs廢氣處理(治理)一體機



      2 沸石轉筒+三塔式RTO

      本技術是沸石轉輪吸附同蓄熱式焚燒技術的組合工藝,凈化系統主要由三級干式過濾裝置、沸石轉輪濃縮吸附裝置、RT0、風機、換熱器、PLC自動化控制系統組成。該組合技術通過沸石轉輪的吸附濃縮使大風量、低濃度有機廢氣濃縮為小風量、高濃度濃縮氣體,高濃度濃縮氣再經RTO高溫燃燒分解為(CO2和H2O等無機成分。


      沸石轉輪 + 三塔式 RTO廢氣處理




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